BINAS-METHODEN
Die an BINAS beteiligten Arbeitsgruppen nutzen modernste Geräte und Techniken zur Präparation und Analyse von Materialien im Nano- und Mikrometerbereich.
In Kooperationen mit der Wirtschaft stellen wir unsere Erfahrung und unsere Technik in der Materialherstellung und -untersuchung zur Verfügung (
Kontakt).
Präparation
- Ultrahochvakuum-Elektronenstrahlverdampfung
- Metallorganische Gasphasenepitaxie (MOCVD)
- Nanometer- und Mikrometer-Lateralstrukturierung
- Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
- Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)
- Lithographie in Nanometer- und Mikrometerstrukturen, Laser- und Elektronenschreibern und Reaktivem-Ionen-Ĵzen (RIE)
- Organische und anorganische (metallischen und oxidischen) Mono-Multischichten im nm-Bereich
- Langmuir-Filmwaage
Mikroskopie
Spektroskopie
- Sekund䲭Ionenmassen-Spektroskopie (SIMS)
- UV-Photoelektronenspektroskopie (UPS)
- Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (XPS)
- Raman-Spektroskopie
- Transiente Absorptionsspektroskopie mit ns-Zeitauflösung und optische Koinzidenzanalysen
- Zeitaufgelöste Fluoreszenzspektroskopie mit Pikosekunden-Zeitauflösung
Omicron Multiprobe
Weitere Analysemethoden
- Röntgenbeugung (Kleinwinkel- und Gro߷inkelbeugung)
- Röntgenreflexion
- Ellipsometrie
- Kontaktwinkelmessungen
- Alternating-Gradient-Magnetometer
- Elektrische- und Magneto-Transportmessungen, Magnetometrie
- Magneto-Optischer Kerr-Effekt
- Hochdruck-Flüssigkeitschromatographie (HPLC)
- Elektrophorese
- Optische Pinzetten (OT) im Einzel- und Mehrfachstrahl
- Kapillarelektrophorese in Mikrochips (Integrated CE)